一、设备概况
1.1应用领域：单片去胶清洗机是高洁净度去胶清洗甩干设备, 具有去胶，清洗，快速烘干，效率高的特点，不同晶圆尺寸，可通过快速更换甩干头来实现。是湿法清洗工艺的主要设备，体型小运行平稳。其主要用于2-12英寸半导体晶圆、掩膜板、各种基片等材料的清洗干燥工艺。具有成本低，快速应用生产等优点。
1.2名称：单片去胶清洗机
1.3型号：QSG-300
二、主要结构特征
单片去胶清洗机主要伺服电机，PLC控制器，人机界面，高洁净阀门，PFA管，氮气加热器，防腐蚀外壳，以及甩干头等部分组成。
2.1材质：进口PP板，能够满足洁净室工作环境。
2.2专用伺服电机，可实现每分钟10-5000转，低速均匀去胶，清洗，高速离心甩干。
2.3工业PLC控制器和人机界面，稳定可靠控制各个部件，直观可视化操作模式。
2.4甩干头详情 可根据客户需要定制适用不同规格尺寸的甩干头
三、主要技术参数
项目 | 主要性能指标和参数 |
加工尺寸 | 2-12英寸 |
单次去胶数量 | 1片 |
工位数量（个） | 1 |
旋转速度 RPM/MIN | 10-5000 |
药液 | 1-4路可定制 |
药液类型 | BOE/丙酮/硫酸/双氧水/氨水/盐酸等 |
药液流量 | 流量可调节/可监控 |
药液喷嘴 | 扇形/锥形/圆柱形 |
药液槽 | 1-4个可定制 |
药液加热 | 可定制 |
冲水功能 | 有 |
二流体喷嘴 | 可定制 |
氮气吹干功能 | 有 |
氮气加热方式 | 电加热器（选配） |
控制系统 | PLC可编程控制器 |
显示 | 7寸触摸屏 |
电源 | 220V |
整机功率 | 2KW |
外形尺寸（深*宽*高）mm | 长450mm*宽450mm*高535mm |
四、产品外观
