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单片晶圆清洗机,晶圆单片式清洗机,晶圆清洗机,湿法清洗机

单片晶圆清洗机是一种专门用于半导体制造过程中对单个晶圆进行清洗的设备,其主要功能包括去除尘粒、金属离子和其他有机物等杂质,该设备能够实现高洁净度和高均一性,同时避免交叉污染。

晶圆单片清洗机,晶圆甩干机,单晶炉,多晶炉,区熔炉,,晶片检测强光灯,单片甩干机,梅耶博格内圆锯,晶圆倒角机

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一、设备概况

1.1应用领域:单片清洗甩干机是高洁净度清洗甩干设备具有高速甩干,快速烘干,效率高的特点,不同晶圆尺寸,可通过快速更换甩干头来实现。是湿法清洗工艺的主要设备,体型小运行平稳。其主要用于2-8英寸半导体晶圆、掩膜板、各种基片等材料的清洗干燥工艺。具有成本低,快速应用生产等优点。

1.2名称:单片清洗甩干机

1.3型号:QSG-150

二、主要结构特征

单片清洗甩干机主要伺服电机,PLC控制器,人机界面,高洁净阀门,PFA管,氮气加热器,防腐蚀外壳,以及甩干头等部分组成。

2.1材质:进口PP板,能够满足洁净室工作环境。

2.2专用伺服电机,可实现每分钟10-3000转,低速均匀清洗,高速离心甩干。

2.3工业PLC控制器和人机界面,稳定可靠控制各个部件,直观可视化操作模式。

2.4大功率氮气加热器,快速加热氮气,提高烘干效率。

2.5甩干头详情 可根据客户需要定制适用不同规格尺寸的甩干头

三、主要技术参数

项目

主要性能指标和参数

加工硅片尺寸

2-8 英寸圆片

单次甩干数量

1

工位数量(个)

1

旋转速度 RPM/MIN

10-3000

清洗甩干时间

2-5min

腔室及氮气加热方式

电加热器

氮气压力

0.25Mpa,氮气管接口6mm

纯水压力

0.15Mpa 管接口6mm

排水管

12mm卡套接头

控制系统

PLC可编程控制器

显示

4.3寸触摸屏

电源

220V

整机功率

2KW

外型尺寸(深**高)mm

365mm*300mm*535mm


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