晶圆甩干机，6寸晶圆甩干机，硅片甩干机，碳化硅晶圆甩干机

一、设备概况

1.1应用领域：晶圆甩干机是高洁净度冲洗甩干设备, 具有高洁净冲洗，高速甩干，快速烘干，效率高的特点，不同晶圆尺寸，可通过快速更换转子来实现。是湿法清洗工艺的主要设备，设备本身有单腔室和双腔室2种结构，体型小运行平稳。其主要用于2-8英寸半导体晶圆、掩膜板、各种基片等材料的高洁净度冲洗及干燥工艺。

1.2名称：双腔室甩干机

1.3型号：CSM870S

1.4尺寸：710mm*460mm*1850mm  

1.5晶圆规格：2-6 英寸

二、主要结构特征

2.1 结构特征

双腔室甩干机主要由主轴传动部分，片盒夹具，工作腔，机架，门盖部分，洁净管路部分，电气控制等组成。

2.1.1材质：不锈钢机架+10mm PP板外壳

2.1.2设备机架：SUS304不锈钢材料，能够满足洁净室工作环境。

2.1.3腔体和载体采用耐腐蚀SUS316L不锈钢并电化学抛光。片架载体可方便更换。

2.1.4电机及转子经精密的动平衡处理，减少设备共振。

2.1.5采用专用定制无刷电机及控制器，保证设备的稳定、可靠及满足系统对洁净度处理的要求。

2.1.6管路系统：PFA洁净管路

2.2 工艺腔体及载体

2.2.1工艺腔数量∶2个 材质为不锈钢316L（腔体电解抛光处理）

2.2.2规格∶ 加工尺寸 2-6 英寸全高片盒，可兼容。

2.2.3工作转速∶ 200—2200 RPM/MIN

2.2.4加热功能∶ 氮气加热  腔体加热

2.2.5轴封：电机转轴采用氮气轴封。

2.3 纯水控制单元：

2.3.1采用扇形冲洗喷嘴。

2.3.2排水口安装电阻率探头，对腔体排水水质进行监测。

2.3.3冲洗工艺完成后，氮气将残留在冲洗管路内的去离子水吹净。

2.3.4待机时，保持回水盒内有水流入且流量可调。

2.4 氮气控制单元：

2.4.1管件阀门： SMC电磁阀、 PFA高纯管件、 PTFE气控阀门。

2.4.2氮气加热功能： 316不锈钢加热器在线加热，温度开关控制， 加热温度控制在 80℃。

2.4.3配置高洁净型减压阀，内置氮气过滤器，过滤精度 0.003μm。

2.5 防静电控制单元：

2.5.1由高压发生器、氮气电离室及氮气控制通道组成。

2.5.2当氮气通过高压发生器的控制区时，氮气电离充斥整个工艺腔体，形成中和平衡消除静电。

2.6 颗粒度：

颗粒增加值：需与客户确认

2.7 电控单元及软件系统：

2.7.1 甩干工艺过程由 PLC 控制器+触摸屏控制，可选择设置多种用户工艺菜单，并对每 个菜单的内容如：时间、速度参数进行设置。

2.7.2系统软件还具有密码权限设置，故障显示及报警功能。设备出现故障时，系统会停止工作并显示错误信息、报警以提示更改和维修。

2.8 工艺流程：

去离子水旋转冲洗＋离心甩干氮气烘干

建议工艺参数：

三、主要技术参数